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NGK MEGCON II+ PRC系列:半導體制造專用超純水防靜電解決方案

更新時間:2026-01-06      瀏覽次數(shù):160


?? 一、文檔概覽與產(chǎn)品簡介

1. 產(chǎn)品定義

MEGCON II+ 是一種通過特殊中空纖維膜向超純水中溶解二氧化碳氣體,從而控制超純水比電阻值的裝置。

2. 應用背景

在半導體精密清洗中,超純水因缺乏離子成分易產(chǎn)生靜電,導致電路破壞或微粒子再附著。該設備通過降低比電阻值賦予水導電性,防止靜電故障。

3. 主要應用領域

包括掩膜版/光罩(Mask/Reticule)、晶圓工藝(Wafer processing)、劃片工藝(Dicing process)、液晶工程及CMP工程等。

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??? 二、產(chǎn)品系列與規(guī)格參數(shù)

1. 產(chǎn)品系列分類

文檔列出了兩大系列,主要區(qū)別在于安裝類型和氣源供給方式:

  • 柜式(Cabinet type):內(nèi)置空氣泵,型號為PRC II。

  • 機架式(Rack type):分為內(nèi)置空氣泵(PRC II)和外部供氣(FRC II)兩種。

2. 型號與性能參數(shù)

文檔提供了詳細的參數(shù)對比表,涵蓋以下關鍵指標:

  • 型號:1000ACD, 1200ACD, 2000ACD, 1220ACD, 2040ACD(柜式);1000AD, 1200AD, 2000AD, 1220AD(機架式)。

  • 最的大流量:范圍從1000 L/hr 到 4000 L/hr(2040ACD型號)。

  • 控制范圍:根據(jù)不同型號,比電阻控制范圍在0.1 MΩ·cm 到 2.0 MΩ·cm之間。

  • 外形尺寸與重量

    • 柜式:520W×400D×1150H mm,重65kg。

    • 機架式:480W×355D×200H mm,重15kg。

  • 接液部材質(zhì):細胞(氣體導入部)為PP,配管為PVC或波紋管。

3. 使用環(huán)境與公用設施要求

  • 超純水:壓力常用0.35MPa以下(最的大0.45MPa),溫度5~35℃,水質(zhì)10MΩ·cm以上。

  • CO?氣體:壓力0.1~0.2MPa,純度99.5%以上。

  • 電源:AC100-240V (50/60Hz)。

? 三、核心功能與技術特點

1. 自動控制性能

  • 流量變動適應:即使流量波動,也能自動將比電阻值控制在設定值。

  • 多種控制模式:根據(jù)使用點數(shù)量和流量,提供傳感器測量控制、解離預測控制、流量預測控制三種模式。

  • 小流量控制:改善了小流量時的控制能力。

2. 操作界面與通信

  • 觸控屏幕:主畫面集成必要信息,可視性好,新增密碼鎖和警報歷史功能。

  • SECS轉(zhuǎn)換器:新增半導體制造設備SECS通信接口,可向主機發(fā)送比電阻、溫度、水量及報警數(shù)據(jù)。

  • 數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng):可將數(shù)據(jù)導入PC,以圖表形式顯示變化并保存,用于清洗作業(yè)的品質(zhì)管理。

3. 膜壽命管理

采用中空纖維膜,相比鼓泡方式無粒子混入且CO?消耗少;配備膜干燥功能,在未使用時自動干燥膜,延長膜的使用壽命。

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