在半導體與電子元件的制造流程中，清洗環(huán)節(jié)至關重要。然而，作為清洗介質的超純水（UP Water），由于其離子含量極低，在特定工況下容易引發(fā)靜電問題，進而影響產品的良率。
針對這一行業(yè)共性難題，NGK公司開發(fā)了MEGCON系列超純水帶電防止器。該設備旨在通過技術手段，解決超純水清洗過程中的靜電積聚問題。
一、 靜電產生的機理與影響
超純水的高電阻率使其接近于絕緣體。在流經管道或進行高壓噴射清洗時，水流與管壁的摩擦會導致靜電荷在物體表面積聚。
這種靜電積聚可能帶來兩方面的直接影響：
1. 電路損傷風險：靜電放電可能對精密電路造成損害。
2. 污染風險：帶電表面容易吸附環(huán)境中的微粒子，增加產品缺陷的可能性。
二、 MEGCON的工作原理：從源頭控制
MEGCON的設計理念是預防靜電的產生，而非事后消除。其工作過程不涉及對水溫的調節(jié)，而是通過改變水的電學特性來實現(xiàn)防靜電功能。
該設備的核心組件采用膜分離技術，將**碳酸氣體（二氧化碳）**溶解于超純水中。氣體溶解后形成微量碳酸，產生離子，從而適度降低水的電阻率，賦予其導電能力。
經過處理的水被稱為 “酸性功能水" 。它在保持高潔凈度的同時，能夠及時導走摩擦產生的電荷，有效防止靜電積聚，降低電路損傷和微粒子吸附的風險。
三、 技術特點與應用領域
MEGCON系列在設計上注重實用性與穩(wěn)定性，主要特點包括：
● 穩(wěn)定的控制能力：采用反饋控制機制，能夠在流量變化時，維持設定的比電阻值。
● 低維護需求：設備結構設計減少了微粒子混入的風險，且進出口壓力損失較小。
● 多樣的型號配置：提供**柜式（Cabinet Type）和機架式（Rack Type）**等多種型號，以適應不同的安裝環(huán)境和流量需求。
目前，該技術已在多個關鍵制造領域得到應用：
● 半導體制造：適用于晶圓切割（Dicing）清洗、高壓噴射清洗及洗滌塔（Scrubber）等工序。
● 顯示面板行業(yè)：用于液晶面板、光掩膜（Photo Mask）及光罩（Reticle）的清洗。
四、 結語
NGK MEGCON超純水帶電防止器，通過獨特的氣體溶解技術，為解決半導體及精密電子制造中的靜電問題提供了一種可行的方案。它體現(xiàn)了NGK在工業(yè)清洗輔助技術方面的積累，為相關制造工藝的穩(wěn)定運行提供了支持。
更新時間：2026-01-07 
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