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日本almedio小型高溫電爐SX系列 高溫電爐采用U型二硅化鉬加熱元件，可在氧化氣氛下高達1700℃長期使用。爐體采用節(jié)能纖維板分層結構，在設備加熱效率和溫度均勻性方面提供了優(yōu)異的表現。另外，采用B型熱電偶（30%鉑銠-6%鉑銠）和PID控制，提高了測溫和控溫精度（±1℃），并進行了確保安全的設計。直至達到所需溫度，即為產品。
更新時間：2024-09-05
日本rikenkeiki 便攜式組合X射線分析儀 DF-01 1.XRD、XRF，同一點兩種分析。可以在同一點進行 X 射線衍射 (XRD) 和 X 射線熒光 (XRF) 兩種類型的分析。換句話說，可以從使用兩種不同測量方法獲得的數據中獲得高度準確的信息。 2.非破壞性、非接觸式便攜式分析設備。利用無損、非接觸的分析方法，我們可以分析那些限制移動或出口的文物和文化資產……即使是所謂的“禁止
更新時間：2024-08-30
日本 jfe膜厚分布測量裝置FDC-H1510 特征 1.能夠測量6英寸晶圓的整個表面 2.能夠以高分辨率（約5μm）測量整個樣品表面和局部厚度 3.緊湊的設計，可安裝在桌面上 4.基于高分辨率的局部測量 由于可以6um的高分辨率測量約3mm角，因此適用于需要局部測量的器件圖案上等膜厚分布測量。 5.最大6英寸的全面測量
更新時間：2024-08-29
日本konicaminolta分光光度計CM-36dGV 日本NIPPON DENSHOKU 光譜顏色濁度測量儀器 主要用于粉末、顏料、紙張、紡織品等的色彩管理。 可以同時測量顏色和光澤，同時保持與 CM-3610A 的數據兼容性（*使用 SCI/LAV 時） 使用場景：紡織/服裝
更新時間：2025-02-22
美國Laurell ø150mm旋涂機H6-23 勞雷爾 H6-23?旋涂機 結構緊湊，功能先進，是安裝在手套箱中最的簡單的旋涂機。 這款 650 系列HL涂布機系統(tǒng)可容納直徑達ø 150mm 的晶圓和 5“ × 5“ (127mm × 127mm) 的基板，最的大轉速為12,000 RPM（基于ø 100mm 硅晶圓）。
更新時間：2024-09-02
日本kitzsct半導體 低壓自動隔膜閥 KD系列 產品概述：低壓隔膜的旗艦型號，適用于半導體用高純度氣體。 參考型號：KD4CS-VC-EP-316L 規(guī)格概要 閥門形狀：直通二通閥 尺寸：1/4“ 最的低流體溫度（℃）：-10 最高流體溫度(℃)：80 最的低環(huán)境溫度（℃）：-10 最高環(huán)境溫度（℃）：60 最大工作壓力（MPa）：0.98 材質：聚四氟乙烯
更新時間：2024-09-03
日本rikenkeiki便攜式氣體泄漏檢測儀SP-230 TYPE L 特征： ?配備LED燈/按鈕背光燈 ?一鍵在LED燈、警報聲音和警報點之間切換 ?配備Bluetooth®！用智能手機輕松管理數據，通過2m跌落測試，防護等級相當于IP67/本質安全防爆結構
更新時間：2024-08-29
日本rikenkeiki便攜式多種有毒氣體檢測儀SC-9000 特征 ?同時檢測多達3種有毒氣體 ?氣體傳感器保證長達3年 ?通過1.5m跌落測試，防護等級相當于IP66/68 ?配備Bluetooth®！通過智能手機輕松進行數據管理 - 本質安全防爆結構，可在防爆區(qū)域使用 - 連續(xù)使用時間：約 60 小時
更新時間：2024-08-29
日本tofco 用于液體｜差壓式流量計 DPF 通過測量與流量成比例的壓差來測量流量。集成了易于讀取的大流量顯示器，使現場確認變得容易。適用于中到大流量。 -該差壓式流量計上安裝了隔膜。 -由于顯示屏變大了，便于閱讀。 -在流向(如縱向和橫向)上可自由使用。 -15A~高達100A的產品線。
更新時間：2024-08-30
日本 jfe膜厚分布測量裝置 S系列標準型號 特征 1.2分鐘內100萬至400萬點的高速測量和膜厚計算 2.可應用于多種應用，產品陣容豐富 3.適用于從研發(fā)到缺陷檢查 主要用途 薄膜模型：SiO2膜、濺射膜、抗蝕劑、液膜、油膜、涂膜 厚膜模型：各種晶圓、PET薄膜、其他薄膜、玻璃等。 超厚膜模型：各種晶圓、塊狀晶圓、薄膜、玻璃等。
更新時間：2024-08-29
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