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美國Laurell ø200mm旋涂機WS-650-8B Laurell WS- 650-8 B 旋涂機 結構緊湊，功能先進。 這款 650 系列涂布機系統(tǒng)可容納直徑達ø 200 毫米的晶圓和 7 英寸 × 7 英寸 (178 毫米 × 178 毫米) 的基板，最大轉速為12,000 RPM（基于直徑ø 100 毫米的硅晶圓）。
更新時間：2024-09-02
日本add -120℃超低溫冷凍柜 YFZ-1423 模型：YFZ-1423 電氣規(guī)格-電源電壓：三相AC200V 50/60Hz額定值：峰值時約10.5A / -120℃穩(wěn)定時約8.5A功耗：穩(wěn)定時最大3.0kW / 2.7kW 性能規(guī)格：冷卻性能：-120℃至-130℃，制冷劑：特殊混合制冷劑（HFC），環(huán)境溫度：10℃至28℃
更新時間：2024-09-02
日本moritex LED照明MCEC-CR8 ? 追求與MML的兼容性并實現高度的一致性。 ? 比MCEL-C*8 更高的照度（參見Pi-61 照度比較數據） ? 緊湊 ? 價格低廉 ? 使用MLEK 電源（參見Pi-62~）?？膳c多通道電源以及環(huán)形照明和背光一起使用
更新時間：2024-10-08
日本konicaminolta分光光度計CM-36dGV 日本電色NIPPON DENSHOKU 排水色顏色污染計 主要用于粉末、顏料、紙張、紡織品等的色彩管理。 可以同時測量顏色和光澤，同時保持與 CM-3610A 的數據兼容性（*使用 SCI/LAV 時） 使用場景：紡織/服裝
更新時間：2025-02-22
日本kohzu 自動旋轉臺 RA04A-W01 機械規(guī)格 模型：RA04A-W01 型號：RA04A-W01-R 指導方法：角軸承 旋轉范圍：±177° 分辨率 微步（1/20 格）：0.0002° 最大速度：20°/秒 累計誤差：。≦0.02°/360° (平均0.0071°/360°) 偏轉：≦20μm/360° (平均6.96μm/360°)
更新時間：2024-09-02
日本rikenkeiki 便攜式組合X射線分析儀 DF-01 1.XRD、XRF，同一點兩種分析?？梢栽谕稽c進行 X 射線衍射 (XRD) 和 X 射線熒光 (XRF) 兩種類型的分析。換句話說，可以從使用兩種不同測量方法獲得的數據中獲得高度準確的信息。 2.非破壞性、非接觸式便攜式分析設備。利用無損、非接觸的分析方法，我們可以分析那些限制移動或出口的文物和文化資產……即使是所謂的“禁止
更新時間：2024-08-30
日本 jfe膜厚分布測量裝置FDC-H1510 特征 1.能夠測量6英寸晶圓的整個表面 2.能夠以高分辨率（約5μm）測量整個樣品表面和局部厚度 3.緊湊的設計，可安裝在桌面上 4.基于高分辨率的局部測量 由于可以6um的高分辨率測量約3mm角，因此適用于需要局部測量的器件圖案上等膜厚分布測量。 5.最大6英寸的全面測量
更新時間：2024-08-29
日本konicaminolta分光光度計CM-36dGV 日本NIPPON DENSHOKU 光譜顏色濁度測量儀器 主要用于粉末、顏料、紙張、紡織品等的色彩管理。 可以同時測量顏色和光澤，同時保持與 CM-3610A 的數據兼容性（*使用 SCI/LAV 時） 使用場景：紡織/服裝
更新時間：2025-02-22
美國Laurell ø150mm旋涂機H6-23 勞雷爾 H6-23?旋涂機 結構緊湊，功能先進，是安裝在手套箱中最的簡單的旋涂機。 這款 650 系列HL涂布機系統(tǒng)可容納直徑達ø 150mm 的晶圓和 5“ × 5“ (127mm × 127mm) 的基板，最的大轉速為12,000 RPM（基于ø 100mm 硅晶圓）。
更新時間：2024-09-02
日本kitzsct半導體 低壓自動隔膜閥 KD系列 產品概述：低壓隔膜的旗艦型號，適用于半導體用高純度氣體。 參考型號：KD4CS-VC-EP-316L 規(guī)格概要 閥門形狀：直通二通閥 尺寸：1/4“ 最的低流體溫度（℃）：-10 最高流體溫度(℃)：80 最的低環(huán)境溫度（℃）：-10 最高環(huán)境溫度（℃）：60 最大工作壓力（MPa）：0.98 材質：聚四氟乙烯
更新時間：2024-09-03
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