Kokusai 高頻超聲波清洗機(jī) 晶圓/光刻掩模用

產(chǎn)品型號：UO1200PMCX
更新時(shí)間：2026-07-07

簡要描述：Kokusai 高頻超聲波清洗機(jī) 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的高精度清洗，適用行業(yè)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。其具體用途包括半導(dǎo)體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導(dǎo)體制造設(shè)備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。

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產(chǎn)品詳情

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,能源,電子/電池,綜合

這是一款由“株式會社國際電気セミコンダクターサービス"（Kokusai Electric Semiconductor Service Inc.）制造的高頻超聲波清洗設(shè)備，產(chǎn)品型號為 UO1200PMCX。該產(chǎn)品主打“微音波®"（Mikrosonic）技術(shù)，專為半導(dǎo)體制造中對精度和潔凈度要求非常高的清洗環(huán)節(jié)設(shè)計(jì)。以下是其核心特點(diǎn)與規(guī)格介紹：

Kokusai 高頻超聲波清洗機(jī) 晶圓/光刻掩模用

核心優(yōu)勢

低損傷、高精度清洗：通過高精度的輸出功率反饋控制，即使在低功率下也能保持穩(wěn)定，有效清洗的同時(shí)大幅降低對精密半導(dǎo)體器件的損傷。
高效率與緊湊設(shè)計(jì)：相比以往機(jī)型，能耗降低了 15%，同時(shí)體積和重量均減少了 30%，更加節(jié)能且節(jié)省空間。
頻率固定：采用固定頻率振蕩，確保石英槽的超聲波透過率始終保持一致，清洗效果穩(wěn)定可靠。
遠(yuǎn)程控制：支持遠(yuǎn)程控制功能，便于集成到自動(dòng)化生產(chǎn)線中進(jìn)行操作。

主要用途

這款設(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵清洗步驟，具體包括：

半導(dǎo)體晶圓清洗
光刻掩模版清洗
裸片（Die）的最終清洗
半導(dǎo)體制造設(shè)備治具清洗

產(chǎn)品規(guī)格

UO1200PMCX 系列提供兩種固定頻率選擇，詳細(xì)參數(shù)如下表所示

項(xiàng)目	規(guī)格
類型	UO1200PMCX
振蕩模式	單頻
額定功率	1200瓦
輸出調(diào)節(jié)范圍	3 至 1200瓦
可選頻率	730 kHz 或 1 MHz
遠(yuǎn)程控制	支持
電源	單相 AC200V～230V ±10%，50/60Hz
外形尺寸	360mm (寬) × 150mm (高) × 480mm (深)
重量	14kg 以下

該產(chǎn)品符合 CE、FCC（需另購噪聲濾波器）及 Semi-F47 等相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。

Kokusai 高頻超聲波清洗機(jī) 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的高精度清洗，適用行業(yè)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。其具體用途包括半導(dǎo)體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導(dǎo)體制造設(shè)備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。

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